- 民國 103 年 12 月 31 日
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由原第十四條第三項移列,並酌作文字修正。
- 民國 115 年 06 月 12 日
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一、條次變更。
二、對於特定粉塵作業場所,除厭惡性粉塵外,亦可能存在結晶型游離二氧化矽之暴
露,如陶瓷、磚窯、耐火磚、玻璃、人造石材製造加工及鑄造等行業,為利雇主
評估作業場所之粉塵危害風險,避免需委託不同認可類別之監測機構而造成困擾
,並考量監測機構之監測人員係具有相關專業資格,且厭惡性與結晶型游離二氧
化矽粉塵之採樣方法相近,爰新增第二項規定,對於特定粉塵作業場所實施粉塵
之監測,為瞭解結晶型游離二氧化矽之濃度,應由具結晶型游離二氧化矽或粉塵
重量分析之認可類別之監測機構實施採樣後,將分析業務由具結晶型游離二氧化
矽分析能力之認證實驗室辦理。
三、第一項未修正。