- 民國 103 年 06 月 25 日
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配合本法之修正與施行日期，文字酌作修正。
- 民國 106 年 08 月 10 日
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配合本標準第二條附表一之修正，增列第二項修正條文之施行日，以資明確。
- 民國 114 年 11 月 20 日
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一、本標準第二條附表一工作別五修正之規定值，考量事業單位改善結晶型游離二氧
化矽所需工程控制及製程等之緩衝期，且依據一百十四年四月十一日修正發布之
「勞工作業場所容許暴露標準」附表二所定容許濃度值進行調整，該表之施行日
期為一百十六年一月一日，爰配合該附表明定施行日期。
二、第一項未修正。